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氧化還原石墨分散機,石墨烯研磨設備采用德國先進的高速研磨分散技術,通過超高轉速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑),從而得出理想的石墨烯漿料。
產品型號:GRS200
廠商性質:生產廠家
更新時間:2025-11-18
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氧化還原石墨分散機
分散是至少兩種互不相溶或者難以相溶且不發生化學反應的物質的混合過程。工業分散的目標是在連續相中實現“令人滿意的"精細分布。
氧化-還原法是指將天然石墨與強酸和強氧化性物質反應生成氧化石墨(GO),經過超聲分散制備成氧化石墨烯,然后加入還原劑去除氧化石墨表面的含氧基團后得到石墨烯。氧化-還原法制備成本較低容易實現,成為生產石墨烯的主流方法。但是該方法所產生的廢液對環境污染比較嚴重,所制備的石墨烯一般都是多層石墨烯或者石墨微晶而非嚴格意義上的石墨烯,并且產品存在缺陷而導致石墨烯部分電學和力學性能損失。

一般國內或者石墨烯會用砂磨機或者球磨機,超聲波分散機等等?球磨機或者砂磨機他們偏重研磨,會破壞他們的內部結構。我們的研磨分散機偏重、分散剝離 。超聲波不適合工業化生產,只是作為一種輔助分散。
在做納米粉體分散或研磨時,因為粉體尺度由大變小的過程中,范德華力及布朗運動現象逐漸明顯且重要。選擇適當助劑以避免粉體再次凝聚及選擇適當的研磨機來控制研磨漿料溫度以降低或避免布朗運動影響,是濕法研磨分散方法能否成功地得到納米級粉體研磨及分散關鍵技術。
SID石墨烯研磨設備采用德國先進的高速研磨分散技術,通過超高轉速(高可達14000rpm)帶動超高精密的磨頭定轉子(通常配CM+8SF,定轉子間隙在0.2-0.3之間)使石墨烯漿料在設備的高線速度下形成湍流,在定轉子間隙里不斷的撞擊、破碎、研磨、分散、均質,從而得出超細的顆粒(當然也需要合適的分散劑做助劑)。綜合以上幾點可以得出理想的石墨烯漿料。

SID石墨烯研磨分散機是由膠體磨,分散機組合而成的高科技產品。線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的多級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
氧化還原石墨分散機設備選型表:
研磨分散機 | 流量* | 輸出 | 線速度 | 功率 | 入口/出口連接 |
類型 | l/h | rpm | m/s | kW | |
GMSD2000/4 | 400 | 14,000 | 44 | 4 | DN25/DN15 |
GMSD2000/5 | 1000 | 10,050 | 44 | 11 | DN40/DN32 |
GMSD2000/10 | 3000 | 7,500 | 44 | 22 | DN80/DN65 |
GMSD2000/20 | 8000 | 4,900 | 44 | 45 | DN80/DN65 |
GMSD2000/30 | 20000 | 2,850 | 44 | 90 | DN150/DN125 |
GMSD2000/50 | 60000 | 1,100 | 44 | 110 | DN200/DN150 |
*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到最大允許量的 10%。 | |||||
