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  • XRS2000微孔型水性墨水高剪切分散機

    微孔型水性墨水高剪切分散機轉子速度可以達到44m/s。在該速度范圍內,由剪切力所造成的湍流結合專門研制的電機可以使粒徑范圍小到納米級。剪切力更強,乳液的粒徑分布更窄。

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    2025-09-06

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  • XMD2000復合催化劑高剪切分散機

    復合催化劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000丙烯酸防水涂料高剪切分散機

    丙烯酸防水涂料高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000奧卡西平片劑高剪切分散機

    奧卡西平片劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000硅化微晶纖維素高剪切研磨分散機

    硅化微晶纖維素高剪切研磨分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XMD2000核酸降糖合劑高剪切分散機

    核酸降糖合劑高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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  • XRS2000硅改性氧化鋁納米分散機

    硅改性氧化鋁納米分散機三組分散頭均易于更換,適合不同工藝應用。該系列中不同型號的機器都有相同的線速度和剪切率,非常易于擴大規模化生產。

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  • XRS2000納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機

    納米二氧化硅水性涂料高剪切分散機不斷地從徑向高速射出,在物料本身和容器壁的阻力下改變流向,與此同時在轉子區產生的上、下軸向抽吸力的作用下,又形成上、下兩股強烈的翻動紊流。物料經過數次循環,完成分散過程。

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